文章摘要:采用钨坩埚和电子束蒸发设备蒸镀金属银薄膜时，银在熔融状态下和钨坩埚是浸润的，坩埚内熔融金属的液面呈凹陷形状。这类凹陷形状的蒸发源，常常会导致被沉积薄膜的均匀性变差。根据固体表面微结构会改变液体与固体接触角的理论，本文尝试用化学腐蚀的方法在光滑平整的钨坩埚内壁上加工出沟槽阵列来改变熔融金属材料与钨坩埚内壁的接触角，从而改变液态银与钨坩埚壁的浸润性。当沟槽宽约1mm，深约0.5mm，周期约2mm时，熔融的金属银和钨坩埚内壁不再浸润。用改造前和改造后的钨坩埚分别蒸镀厚度100nm的银膜，发现改造后的钨坩埚可以有效提高蒸镀薄膜的均匀性。

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论文分类号:TG173